化学仪器模板

FPD Mask 缺陷检测

在LCD、TFT、CF、Touch Panel制造中，光罩（也称Mask）用于批量转移电路设计图形到芯片上，承载了图形设计和工艺技术等关键信息，光罩上的图形错误、颗粒划痕等缺陷都会影响最终产品的良率降低，进而影响产品性能和可靠性。

Wafer 缺陷检测

晶圆表面缺陷检测是半导体制造过程中的关键环节，利用高精度的光学成像技术，通过图像分析识别晶圆表面的微小缺陷，如颗粒、裂纹、划痕等进行检测识别，以即时监控工艺的稳定情况，同时也用于晶圆出货检测，保证产品出货品质。