同时兼容4、6、8寸Wafer,灵活方便
双 Port循环式上下料,减少操作员等待时间
双光路线阵+面阵成像系统,快速扫描
支持明暗场照明方式,可更好捕获细微缺陷
支持硬件、软件、拟合多种自动聚焦模式,保证大翘曲晶圆的检测精度
支持多ROI、多图层的分区检测
支持D2D、D2G、D2DB 检测算法
支持AI的缺陷检测及缺陷分类
支持与客户MES系统数据对接
取代人工目检、提升产品品质一致性、快速高效。
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